Integrated control system for electron beam processes

نویسندگان
چکیده

برای دانلود رایگان متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

فرآیند کنترل در سیستم کامپیوتری تهویه مطبوع ‏‎airwasher environmental control system for intelligent buildings‎‏

در این پایان نامه با استفاده از تکنولوژی روز و امکانات داخل کشور طریقه اتوماسیون سیستم تاسیساتی یک کارخانه نساجی (کارخانه نساجی اطلس پود) همراه با منوهای مربوطه و توضیحات کامل برنامه نویسی و طراحی بلوک های برنامه و سایر قسمتهای برنامه ارائه گشته است. علاوه بر این، برنامه با نمونه آمریکایی آن مقایسه و مزیت های آن نسبت به آمریکایی توضیح داده شده است. همچنین تمامی بلوک های برنامه بصورت شماتیکی بطو...

15 صفحه اول

A simple electron-beam lithography system.

A large number of applications of electron-beam lithography (EBL) systems in nanotechnology have been demonstrated in recent years. In this paper we present a simple and general-purpose EBL system constructed by insertion of an electrostatic deflector plate system at the electron-beam exit of the column of a scanning electron microscope (SEM). The system can easily be mounted on most standard S...

متن کامل

Fuzzy Control for Nonlinearball and Beam System

This paper studies the control of the ball-and beam system by different controllers. Many nonlinear controllers for ball and beamsystem can achieve in some cases asymptotic stability.On the other hand, many laboratories useProportional Integral Derivative control for the ball and beam system, but theory analysisis based on a linear approximate model. Therefore, some methods of controlfor the ba...

متن کامل

A Control System of a Scanning Electron Pulsed Beam for an Industrial Linac

This paper describes a method and a control system of a scanning electron and a bremsstrahlung pulsed beam for industrial linac. The system uses ultrasonic emission generated by the beam in thin rods and plates, as a source of primary information about the current characteristics of each electron/bremsstrahlung pulse. The results of the uniform radiation field forming are discussed.

متن کامل

Registration Mark Detection for Electron-Beam Lithography-ELI System

In electron-beam lithography for the direct exposure of wafers jbr integrated circuit manujucturing, accurate registration is necessary to achieve the requiredpattern overlay. This paper examines elements that should be considered to optimize the registration mark detection process in an automatic registration system for an e-beam lithography tool such as IBM’s ELI . Included is a section on th...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of Physics: Conference Series

سال: 2018

ISSN: 1742-6588,1742-6596

DOI: 10.1088/1742-6596/992/1/012014